等离子体反应离子蚀刻系统将被结合到RIT的洁净室中，并用于光子和纳米电子器件的研究和开发。
Jing Zhang，罗彻斯特理工学院工程学院教职员工，收到来自美国国家科学基金会$ 305,000的拨款用以资助一个有关光子，电子和生物器件制造新的蚀刻系统。该系统加强了RIT的在其半导体和微加工实验室的制造能力，以支持在科学和工程方面新的和现有的多学科研究、促进RIT教学课程发展，并由RIT工程学院领导用于支撑团队发展和培训活动。
ICP-RIE系统——感应耦合等离子体反应离子蚀刻系统——是用于创建特定的结构模型，或在电子器件中的集成电路设备上暴露不同的导电层，Zhang说道。
“如果我们想制造一个晶片到设备中，就需要有这种类型的蚀刻，”张说道，她是RIT的Kate Gleason工程学院电气与微电子工程系被资助的助理教授。“附近没有这样的设备，所以它的需求市场非常广阔，并且它将有助于我们同其他大学和企业研究人员的合作。”
传统的半导体研究主要集中于硅基材料。Zhang正致力于合成各种半导体和一种被应用的新兴材料氮化镓。氮化镓基半导体被集成到光电子中，如LED，为智能电网应用提供电能和为电动汽车提供能源管理，通过太阳能应用收获太阳能并将其转化为电能。有关紫外波长传感器的新的研究是一个新兴的领域，她解释说。
“对于基于III族氮化物基发光二极管和激光等半导体器件的研究和教育，该仪器是必不可少的。我们正在研究这种材料的每一个方面，从了解其物理性到实现新型设备。“该设备将有助于该流程，”Zhang说道，她2014年来到RIT，是该大学的一个正在成长且成熟的半导体材料和光子器件研究团队的 一份子。她是紫外线和可见光发光二极管（也称作发光二极管）方面的专家，并致力于发展光电和电子器件的半导体。
等离子体反应离子蚀刻系统包含几个步骤，才能完成集成电路制造工艺。将反应性等离子体在晶片上沉积，去除和提炼多余的材料以“蚀刻”或形成到集成电路层的图案。这些蚀刻微纳米结构是复杂的半导体器件的基础。该ICP-RIE系统为各种材料系统提供干蚀刻能力，例如具有快速蚀刻速率、良好控制的选择性和均匀性的合成半导体，电介质材料和金属。
随着光子学领域的重视劳动力的发展，新设备还为培训提供了重要的教育机会。 RIT的微电子工程部门为该地区希望在本领域有所提高的高中、社区学院的教师和公司员工们提供了在半导体制造方面的短期课程。
在过去的一年中，RIT还获得了一个金属有机汽相外延系统，也被称为 MOVPE，用以生产III-V族的单晶材料。这个国家最先进的工具，使研究人员能够构建高性能的光学和电子设备，也将是一个重要的学习和培训资源。这种工作曾经是外包给合作性研究实验室，如NASA。如今，该设备提供的内部功能，与ICP-RIE系统相结合，供RIT的研究人员以、罗切斯特光电子社区，包括AIM光电的合作伙伴使用，Zhang补充道。
